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場發射掃描電子顯微鏡主要用途

日期:2022-06-01 13:35
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摘要:
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       場發射掃描電子顯微鏡主要用途: 該儀器具有超高分辨率,能做各種固態樣品表面形貌的二次電子象、反射電子象觀察及圖像處理。 具有高性能x射線能譜儀,能同時進行樣品表層的微區點線面元素的定性、半定量及定量分析,具有形貌、化學組分綜合分析能力。
  儀器類別: 03040702 /儀器儀表/光學儀器 /電子光學及離子光學儀器
  指標信息: 二次電子象分辨率:1.5nm 加速電壓:0~30kV 放大倍數:10-50萬倍連續可調工作距離:5~35mm連續可調傾斜:-5°~45° x射線能譜儀: 分辨率:133eV 分析范圍:B-U
  附件信息: 鍍金鍍炭儀 ISIS圖像處理系統背散射探頭
  場發射掃描電鏡,由于分辨率高,為納米材料的研究提供了可靠的實驗手段。另外,對半導體材料和絕緣體,都能得到滿意的圖像,對超導薄膜,磁性材料,分子束外延生長的薄膜材料,半導體材料進行了形貌觀察,并對多種材料進行了微區成份分析,均能得到滿意的結果

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