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場發射掃描電子顯微鏡主要用途
日期：2022-06-01 13:35
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摘要：
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場發射掃描電子顯微鏡主要用途： 該儀器具有超高分辨率，能做各種固態樣品表面形貌的二次電子象、反射電子象觀察及圖像處理。 具有高性能x射線能譜儀，能同時進行樣品表層的微區點線面元素的定性、半定量及定量分析，具有形貌、化學組分綜合分析能力。
儀器類別： 03040702 /儀器儀表/光學儀器 /電子光學及離子光學儀器
指標信息： 二次電子象分辨率：1.5nm 加速電壓：0～30kV 放大倍數：10-50萬倍連續可調工作距離：5～35mm連續可調傾斜：-5°～45° x射線能譜儀： 分辨率：133eV 分析范圍：B-U
附件信息： 鍍金鍍炭儀 ISIS圖像處理系統背散射探頭
場發射掃描電鏡，由于分辨率高，為納米材料的研究提供了可靠的實驗手段。另外，對半導體材料和絕緣體，都能得到滿意的圖像，對超導薄膜，磁性材料，分子束外延生長的薄膜材料，半導體材料進行了形貌觀察，并對多種材料進行了微區成份分析，均能得到滿意的結果
金相圖像，顯微鏡，圖像分析，顯微鏡改造，顯微硬度計，清潔度測試系統，金相顯微鏡，
場發射掃描電子顯微鏡主要用途： 該儀器具有超高分辨率，能做各種固態樣品表面形貌的二次電子象、反射電子象觀察及圖像處理。 具有高性能x射線能譜儀，能同時進行樣品表層的微區點線面元素的定性、半定量及定量分析，具有形貌、化學組分綜合分析能力。
儀器類別： 03040702 /儀器儀表/光學儀器 /電子光學及離子光學儀器
指標信息： 二次電子象分辨率：1.5nm 加速電壓：0～30kV 放大倍數：10-50萬倍連續可調工作距離：5～35mm連續可調傾斜：-5°～45° x射線能譜儀： 分辨率：133eV 分析范圍：B-U
附件信息： 鍍金鍍炭儀 ISIS圖像處理系統背散射探頭
場發射掃描電鏡，由于分辨率高，為納米材料的研究提供了可靠的實驗手段。另外，對半導體材料和絕緣體，都能得到滿意的圖像，對超導薄膜，磁性材料，分子束外延生長的薄膜材料，半導體材料進行了形貌觀察，并對多種材料進行了微區成份分析，均能得到滿意的結果
金相圖像，顯微鏡，圖像分析，顯微鏡改造，顯微硬度計，清潔度測試系統，金相顯微鏡，